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スパッタリングターゲット
概要
イオン衝撃により原子を物理的に、ターゲットサーフェスから取り除く低温蒸気プロセスであるスパッタリングの原料として使用される高純度材料です。
公差
| 直径 | ±0.5mm | |
|---|---|---|
| 厚さ | ±0.5mm |
