ガリウム添加酸化亜鉛(酸化亜鉛/酸化ガリウム2%) - GZO - スパッタリングターゲット(Zinc Oxide / Gallium Oxide 2% - GZO - Sputtering Target)の用途と特徴

ガリウム添加酸化亜鉛(酸化亜鉛/酸化ガリウム2%) - GZO - スパッタリングターゲット(Zinc Oxide / Gallium Oxide 2% - GZO - Sputtering Target)の用途と特徴

ガリウム添加酸化亜鉛酸化亜鉛/酸化ガリウム(Zinc Oxide / Gallium Oxide) スパッタリングターゲットの一般的な純度は99.9%～99.99%です。 GZOは一般的な材料であり、日常的に作られるスパッタターゲットです。酸化亜鉛/酸化ガリウム(Zinc Oxide / Gallium Oxide)は、透明導電性フィルム、フラットパネルディスプレイ、半導体などを製造するために使用されます。酸化亜鉛/酸化ガリウム(Zinc Oxide / Gallium Oxide)の特徴は高純度で、ユーザーが求めるサイズでカスタマイズすることができます。酸化亜鉛/酸化ガリウム(Zinc Oxide / Gallium Oxide)の製造工程は、最初に、製造-熱間プレス-焼結後バッキングプレートに接着します。そして洗浄と最終包装を進めます。これは、酸化亜鉛/酸化ガリウム(Zinc Oxide / Gallium Oxide)を環境汚染物質から保護し、配送中に本来の状態を維持できるように保護します。

酸化亜鉛(Zinc Oxide)は化学式ZnOの無機化合物です。そして、水に溶けない白い粉末です。酸化亜鉛(Zinc Oxide)は化粧品、食品補助剤、ゴム、プラスチック、セラミック、ガラス、セメント、潤滑剤、塗料、軟膏、接着剤、シーラント、顔料、食品、バッテリー、フェライト、難燃剤など様々な材料および製品の添加剤として使用されます。また、鉱物性亜鉛鉱で自然に発生しますが、ほとんどの酸化亜鉛(Zinc Oxide)は合成過程を通じて生産されます。

酸化亜鉛(Zinc Oxide)はII-VI半導体グループの広帯域ギャップ半導体です。酸素(Oxygen)欠損または亜鉛(Zinc)隙間による半導体の固有ドーピングはn型です。他の有利な特性には、優れた透明度、高い電子移動度、広いバンドギャップ、および強力な室温発光があります。これらの特性により、酸化亜鉛(Zinc Oxide)は、液晶ディスプレイの透明電極、省エネまたは熱保護窓、薄膜トランジスタ、発光ダイオードなどの電子製品など、さまざまな新しい用途で利用されます。

酸化ガリウム(Gallium Oxide)は式Ga2Oの無機化合物です。また、乾燥した空気中で酸化されなくなった茶色 - 黒色の半磁性固体です。 500℃以上の温度で加熱すると分解が始まり、分解速度は大気（真空、不活性ガス、空気）によって異なります。

亜鉛(Zinc)とガリウム(Gallium)の特性

亜鉛(Zinc)（原子記号：Zn、原子番号：30）は、原子量65.38のブロックD、12族、4周期元素です。各亜鉛(Zinc)シェルの電子数は2、8、18、2、電子配列は(Ar) 3d10 4s2です。亜鉛(Zinc)原子の半径は134pm、ファンデルワールス半径は210pmです。亜鉛(Zinc)は紀元前1000年以前にインドの冶金学者によって発見され、800年にRassaratna Samuccayaによって固有の元素として最初に認識されました。亜鉛(Zinc)は1746年にAndreas Marggrafによって最初に分離されました。亜鉛(Zinc)は元素形態で銀灰色の外観を持っています。常温では脆くなりますが、100℃〜150℃では可鍛性があります。

ガリウム(Gallium)（原子記号：Ga、原子番号：31）は、原子量69.723のブロックP、13族、4周期元素です。ガリウム(Gallium)の各殻にある電子の数は2、8、18、3であり、電子配列は(Ar) 3d10 4s2 4p1です。ガリウム原子の半径は122.1pm、ファンデルワールス半径は187pmです。ガリウム(Gallium)は1871年にDmitri Mendeleevによって予測されました。これは1875年にLecoq de Boisbaudranによって最初に発見され、分離されました。また、ガリウムは、元素の形で銀色の外観を持っています。ガリウム(Gallium)は室温で液体で自然に発生する3つの元素のうちの1つであり、残りの2つは水銀(mercury)とセシウム(cesium)です。

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