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ケイ化クロム(Chromium Silicide)はクロム(Chromium)とシリコン(Silicon)の無機化合物です。ケイ化クロム(Chromium Silicide)の化学式はCrSi2です。珪化クロム(Chromium Silicide)は、間接バンドギャップが0.35eVのp型熱電半導体です。ケイ化クロム(Chromium Silicide)はセラミック材料の製造に使用されます。また、低圧プラズマスプレーから耐酸化性表面を生成することができます。

ケイ化クロム(Chromium Silicide)は、化学気相蒸着(CVD、Chemical Vapor Deposition)、物理気相蒸着(PVD、Physical Vapor Deposition)、半導体、光学などに使用されます。珪化クロム（Chromium Silicide）は融点が高く耐酸化性に優れた狭帯域半導体で、電子やエネルギー素材をはじめとする様々な分野で注目を集めています。ケイ化クロム結晶性ナノワイヤは、アルゴンの流れの下で蒸気拡散法によって製造することができます。

ケイ化クロム(Chromium Silicide)はシリサイド化工程(silicidation process)を通じて得られます。この材料は水に溶けず無臭を保ち、機械的に合金化された材料であるため、熱可塑性特性が優れています。ケイ化クロム(Chromium Silicide)は、放出電流を増加させ、開始電圧放電抵抗を低減するのに有効であり、高い導電率を持ちます。そして、等温及び低温特性を示し、酸化特性に優れています。

E Mazzegaの研究によって、Cr3Si および Cr5Si3 化合物は、SiO2 基板上に蒸着されたアモルファスシリコンとクロムの薄い二重層で、800 ℃ で固相反応によって得られれることが明らかになりました。また、ラザフォード後方散乱分光法 (RBS)、X 線回折 (XRD)、およびオージェ電子分光法 (AES) を使用して、サンプルの化学的および結晶学的特性に関する情報を取得します。 van der Pauw 構造の電気抵抗率とホール電圧の測定は、それぞれ 10 ～ 1100 K および 10 ～ 300 K の範囲の温度の関数として実行されました。古典的な金属の場合といくつかの類似性を発見しましたが、温度挙動に対する抵抗率、および抵抗率とホール係数の大きさの順序で顕著な違いが観察されました。

ケイ化クロム(Chromium Silicide)の応用

•ファインセラミック原料粉末に使用します。

•るつぼ付き半導体薄膜の製造に使用します。

• 膜(membrane)、コーティングガラス、ターゲット材、スパッタリングターゲット材として使用します。

•航空宇宙産業の潜在的な特性に広く適用されています

• ニッケルと組み合わせてプラスチック金型産業にも適用されます。

クロム(Chromium)とシリコン(Silicon)の特性

クロム(Chromium)（原子記号：Cr、原子番号：24）は、ブロックD、6族、4周期元素で原子量51.9961です。クロム(Chromium)シェルの電子数は2、8、13、1、電子配列は(Ar) 3d5 4s1です。 Louis Nicolas Vauquelinは1797年に初めてChromiumを発見し、翌年初めて分離しました。クロム原子の半径は128pm、ファンデルワールスの半径は189pmです。元素状のクロムは光沢のあるスチールグレーの外観を持っています。元素クロムは周期律表で最も硬い金属元素です。また、室温で反強磁性秩序を示す唯一の元素であり、それ以上では常磁性固体に変形します。クロムの最も一般的な供給源は、クロムライト(chromite ore)（FeCr2O4）です。

シリコン(Silicon)（原子記号：Si、原子番号：14）は、原子量28.085のブロックP、14族、3周期元素です。シリコン(Silicon)の各シェルにある電子の数は2、8、4、電子配列は(Ne) 3s2 3p2です。シリコン原子の半径は111pm、ファンデルワールスの半径は210pmです。シリコン(Silicon)は1823年にJöns Jacob Berzeliusによって発見され、最初に分離されました。シリコン(Silicon)は重量基準で知覚の25.7％を占め、酸素の他に2番目に豊富な元素です。準金属は純粋な結晶形ではほとんど見られず、一般に鉄 - シリコン合金ペロシリコンから製造されます。シリコンは、砂などの機械的、光学的、熱的、電気的特性に優れた最も安価な材料の1つであるガラスの主成分です。超高純度シリコン(Silicon)は、ホウ素、ガリウム、リンまたはヒ素でドープされ、トランジスタ、太陽電池、整流器および電子産業で広く使用されている他の固体デバイスに使用されるシリコン(Silicon)を製造することができます。

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ケイ化クロム(Chromium Silicide)の特徴と仕様