ランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)の概要と特徴

ランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)の概要と特徴

無機化合物の一つであるランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)(LaAlO3)は、LAOと略称され、歪んだペロブスカイト構造を持つ光学的に透明なセラミック酸化物です。結晶質であるLaAlO3は、~25の相対的に高い比誘電率を持ちます。

 技術的に重要な薄膜(thin films) を蒸着するために、ランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)単結晶の表面結晶学および化学は表面X線回折および低エネルギーイオン散乱分光法を利用します。 アルミン酸ランタン(Lanthanum aluminate)(LaAlO3)は、他の絶縁体と結合すると2次元電子ガス(2DEG)分野に応用することができるので、ますます関心を集めています。

 

アルミン酸ランタン(Lanthanum aluminate)の用途

エピタキシャル薄膜(Epitaxial thin films)

LAOのエピタキシャル(Epitaxial)成長した薄膜は、電子異種構造および装置の様々な用途で使用できます。アルミン酸ランタン(Lanthanum aluminate)は、ときに伝導層間のエピタキシャル絶縁体として使用されます。エピタキシャル(Epitaxial)アルミン酸ランタンフィルムは、様々な方法で製作することができます。最も一般的にパルスレーザー蒸着(pulsed laser deposition)(PLD)及び分子線結晶成長システム(molecular beamepitaxy)(MBE)などの方法があります。

 

気質(Substrates)

ランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)の単結晶は、ペロブスカイト(perovskite)、特に銅の超伝導体のエピタキシャル(Epitaxial)成長のための基板として利用可能です。

 

非エピタキシャル薄膜(Non-Epitaxial thin films)

ランタンアルミネート(Lanthanum aluminate)薄膜(thin films)は、2000年代初期に固有の 誘電体の候補物質として考えられていました。相対誘電定数が~25にもかかわらず、関連温度(~1000℃)でシリコンと接触すると十分に安定しませんでした。

 

ランタン(Lanthanum)とアルミ(Aluminum)の特性

ランタン(Lanthanum)(原子記号:La、原子番号:57)は、原子量138.90547のブロックF、グループ3、Period 6元素です。ランタン(Lanthanum)元素は空気中で簡単に酸化される、ソフトで可鍛性と延性のある金属です。ランタン(Lanthanum)は希土類またはランタニド元素系列の最初の要素です。他のすべての3が希土類のモデルであり、セリウム(Cerium)の次に、二番目に豊富な希土類です。

アルミニウム(Aluminum)(原子記号:Al、原子番号:13)は、原子量26.9815386のブロックP、グループ13、Period3の元素です。 アルミ(Aluminum)は、地殻で3番目に最も豊かな元素であり、最も豊かな金属元素です。 アルミニウム(Aluminum)が最初に分離されたのは1825年です。

アルミ(Aluminum)は、多くの 特性を持つ銀灰色の金属です。 強くて軽くて簡単に構成される材料を必要とする多くの産業応用分野で広範囲に使用されています。 アルミ(Aluminum)元素銅の電気伝導度は60%に過ぎませんが、重さが軽いため送電線に使用されます。 純粋なアルミ(Aluminum)は柔らかくて強度が足りないですが、少量の銅(Copper)マグネシウム(Magnesium)、シリコン(Silicon)、マンガン(Manganese)またはその他元素と合金して多様な特性を持つ素材として利用することができます。

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