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ケイ化タンタル(珪化タンタル, TaSi2, TantalumSilicide)の特性と仕様

耐火金属であるタンタリウム(Tantalum)は、珪化物(Silicide)を形成する際、周辺の不純物の影響を受けやすいです。ケイ化タンタル(TantalumSilicide)システムに窒素および酸素不純物を入れると、後続反応で化学的および物理的効果が観察されます。窒素（Nitrogen）と酸素（Oxygen）は、このような化学プロセスでで影響を与え合います。タンタリウム(Tantalum)にがある場合、ケイ化物(Silicide)層が多少遅れた速度で成長することによって、まだ反応していないタンタリウム(Tantalum)に分離されます。

珪化物(Silicide)に存在する同一の不純物は安定した化合物形態で動かず、TaSi2の成長を抑制します。ケイ化タンタル(TantalumSilicide)は熱保護システムに適用されるセラミック製造に使用されます。また、キャパシタおよび高電力抵抗器用電子アプリケーションの製造に使用されます。さらに、強度、軟性、耐食性を高めるために合金を作るのに使用されます。金属は免疫反応を起こさないため、歯科や手術器具、インプラントの材料としても利用されます。

ケイ化タンタル(珪化タンタル, TaSi2, TantalumSilicide)粉末は、粒径が均一で構造的に安定しています。ケイ化タンタル(TaSi2, TantalumSilicide)は、高融点、低抵抗、耐食性、耐高温酸化性、シリコン、炭素、その他の基質材料との相溶性など優れた特性を持っています。ゲート材料、集積回路接続線、耐高温酸化コーティング等に珪化タンタルTaSi2粉末を使用し、電気発熱素子、高温構造部品、電子機器等に広く研究·応用されています。

ケイ化タンタル(TaSi2, TantalumSilicide)ターゲットを有するVARIAN3125マグネトロンDCスパッタリングシステムを用いて、P型及びN型シリコン基板上にタンタルシリサイド（TaSi2）薄膜をスパッタ堆積します。このスパッタリングターゲットは、半導体、化学蒸着（CVD）、物理蒸着（PVD）ディスプレイおよび光学アプリケーションに使用されます。

ケイ化タンタル(TantalumSilicide)は灰色の稠密な構造の金属です。化学的性質はニオビウム(Niobium)と非常に類似しています。タンタラム(Tantalum)は酸化膜の形成により耐食性が高く優れた耐性を持つ半導体です。タンタリウム(Tantalum)は、耐火金属(熱や摩耗に対する抵抗が非常に高い金属)の一つです。他の耐火物金属はタングステン(Tungsten)、モリブデン(Molybdenum)、レニウム(Rhenium)およびニオビウム(Niobium)などがあります。また、タンタリウム（Tantalum）は毒性のないものとみなされます。

タンタリウム(Tantalum)とケイ素(Silicon)の特性

タンタリウム(Tantalum)(原子記号:Ta、原子番号:73)は原子量180.94788のブロックD、グループ5、6周期元素です。ボアモデルでタンタリウム(Tantalum)殻の電子数は(2,8,18,32,11,2)で電子配列は(Xe)4f145d36s2です。タンタリウム（Tantalum）原子の半径は146pmで、バンデルワルス（VanderWaals）半径は217pmです。高純度(99.999%)タンタリウム(Tantalum)(Ta)MetalTantalumは1802年スウェーデンのウプサラでAndersG.Ekebergによって初めて発見されましたが、ハインリヒ·ローズが初めてこれを別の元素として認識したのは1844年になってからでした。元素形態でタンタリウムは暗い青色を帯ます。また、タンタリウムは鉱物タンタルライト(tantalite)、マイクロライト(microlite)、ウォージーナイト(wodginite)、ユークセナイト(euxenite)、ポリクレイズ(polycrase)で発見されます。

ケイ素(Silicon)(原子記号:Si、原子番号:14)は原子量28.085のブロックP、14族、3周期元素です。ケイ素(Silicon)の電子の数は2、8、4で、電子配列は(Ne)3s23p2です。ケイ素(Silicon)原子の半径は111pmで、ヴァンデルヴァルス(VanderWaals)は210pmです。ケイ素(Silicon)は重量基準で地殻の25.7%を占め、酸素の次に2番目に豊富な元素です。準金属は純粋な結晶形態でほとんど発見されず、一般的に鉄-ケイ素合金の形で生産されます。ケイ素(Silicon)は、砂のように機械的、光学的、熱的、電気的特性に優れた最も安い材料の一つであるガラスの主成分です。超高純度シリコンはホウ素、ガリウム、リンまたはヒ素でドーピングされ、トランジスタ、太陽電池、整流器および電子産業で幅広く使用されるシリコンを生産することができます。

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