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革新的な研究のための2次元結晶

これらの単結晶は、独自の2次元材料を製作するまたとない機会を提供します

  • サンプルは、酸化シリコン基板上で供給されます
  • X、Y座標が提供されます
  • フレークの識別に役立つマイクロ画像が含まれています
  • すべてのフレークの最小面積は単層で厚さ10μm2です

現在提供されている2次元結晶
二硫化モリブデン、MoS2

二硫化モリブデンは、1.3eVの間接バンドギャップをもつジカルコゲナイドの遷移金属です。その大きなバンドギャップは、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスでの利用に最適です。

二セレン化モリブデン、MoSe2

二セレン化モリブデンも遷移金属ジカルコゲナイドです。MoSe2は間接半導体であり、層の厚さが原子の限度まで低減されているため、熱駆動のクロスオーバーが直接バンドギャップになります。

六角形窒化ホウ素、hBN

六角形窒化ホウ素は、サイズが5eVの大きなバンドギャップをもつ絶縁積層材です。hBNは、高品質の原子的に薄い誘電体、およびプラズマ装置のプラットフォームとして使用できます。

二硫化タングステン、WS2

二硫化タングステンは、約1.6eVのバンドギャップをもつ間接半導体です。単層状態では、バンドギャップはサイズ2.1eVの直接的なものとなり、強い光ルミネセンスを示します。WS2は、その高い電子移動性のためにエレクトロニクス産業の用途で進んで使用されます。

二セレン化タングステン、WSe2

二セレン化タングステンは赤外線領域にバンドギャップをもち、その結果、鮮明で高性能な光学特性を要求する用途に使用されます。

二テルル化タングステン、WTe2

二テルル化タングステンは、その比較的大きな非飽和磁気抵抗のために広範に研究されており、Nature誌にそれが報告されています。

黒色リン(フォスフォレン)

黒色のフォスフォレンは、グラフェンの後に広範に単離され特徴付けられる第2の2次元材料です。高移動性のため、エレクトロニクス産業で潜在的な用途があり、1000cm2/Vsに達します。

セレン化カリウム、GaSe

セレン化カリウムは、約2eVのバンドギャップをもつ半導体です。GaSeは、強いフォトルミネセンスを有する直接的なバンドギャップをもち、光学エレクトロニクス装置に使用されます。

グラフェニウム黒鉛

グラフェンは、2004年に、1センチメートル以上の薄片サイズをもつ特別なHOPGスタイルのグラフェニウム黒鉛を使用して製造されました。

硫化ヒ素、As2S3

硫化ヒ素は、予期しない特性と約2.5eVの予期されるバンドギャップをもつ半導体です。

サポートと助言

Goodfellowは、2次元結晶の剥離と、酸化ケイ素基盤上への堆積をサポートすることができます。すべての試料は酸化ケイ素基盤上に供給され、フレークの同定を助けるために、様々な倍率のマイクロ画像と、(x、y)座標が付いています。すべてのフレークの最小面積は単層で厚さ10μm2です。

詳細については03-5579-9285にお電話いただくか、info@goodfellow-japan.jp までEメールをお送りください。

Goodfellowは人気のグラフェン製品も取り揃えています。

  • 簡易転送グラフェンフィルム
  • CVDグラフェン
  • グラフェンインク
  • グラフェンナノプレートレット
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